مستقر، متعدد الاستخدامات، مرن، وفعال
ال CIQTEK SEM4000X هو مستقر ومتعدد الاستخدامات ومرن وفعال المجهر الإلكتروني الماسح ذو الانبعاث الميداني (FE-SEM) يحقق هذا الجهاز دقة تصل إلى 1.8 نانومتر عند جهد 1.0 كيلوفولت، ويتغلب بسهولة على تحديات التصوير عالي الدقة لمختلف أنواع العينات. ويمكن ترقيته بوضع تباطؤ فائق للشعاع لتعزيز دقة الجهد المنخفض بشكل أكبر.
يستخدم المجهر تقنية متعددة الكواشف، حيث يحتوي على كاشف إلكتروني داخل العمود (UD) قادر على رصد إشارات الإلكترونات الثانوية (SE) والإلكترونات المرتدة (BSE) مع توفير دقة عالية. أما الكاشف الإلكتروني المثبت في الحجرة (LD) فيتضمن وميضًا بلوريًا وأنابيب مضاعفة ضوئية، مما يوفر حساسية وكفاءة أعلى، وينتج عنه صور مجسمة بجودة ممتازة. تتميز واجهة المستخدم الرسومية بسهولة الاستخدام، وتتضمن وظائف أتمتة مثل السطوع والتباين التلقائيين، والتركيز التلقائي، والتصحيح التلقائي للتباين، والمحاذاة التلقائية، مما يسمح بالتقاط صور فائقة الدقة بسرعة.
يستخدم برنامج مجهر CIQTEK SEM خوارزميات متنوعة للكشف عن الأهداف وتقسيمها، وهي مناسبة لأنواع مختلفة من عينات الجسيمات والمسام. فهو يُمكّن من التحليل الكمي لإحصائيات الجسيمات والمسام، ويمكن تطبيقه في مجالات مثل علم المواد والجيولوجيا وعلوم البيئة
قم بإجراء معالجة لاحقة للصور عبر الإنترنت أو دون اتصال بالإنترنت على الصور الملتقطة بواسطة المجاهر الإلكترونية، وقم بدمج وظائف معالجة صور المجهر الإلكتروني شائعة الاستخدام، وأدوات القياس والتعليق المريحة
التعرف التلقائي على حواف عرض الخط، مما يؤدي إلى قياسات أكثر دقة واتساقًا أعلى. يدعم أوضاعًا متعددة للكشف عن الحواف، مثل الخط والمسافة والخطوة، وما إلى ذلك. متوافق مع تنسيقات صور متعددة ومجهز بوظائف معالجة الصور اللاحقة الشائعة الاستخدام. البرنامج سهل الاستخدام وفعال ودقيق
يوفر هذا النظام مجموعة من واجهات التحكم في مجهر المسح الإلكتروني، بما في ذلك التقاط الصور، وإعدادات ظروف التشغيل، وتشغيل/إيقاف الطاقة، والتحكم في المنصة، وغيرها. تتيح تعريفات الواجهات الموجزة التطوير السريع لبرامج تشغيل مجهر المسح الإلكتروني، مما يُمكّن من التتبع الآلي للمناطق المهمة، وجمع بيانات الأتمتة الصناعية، وتصحيح انحراف الصورة، ووظائف أخرى. يمكن استخدامه لتطوير البرامج في مجالات متخصصة مثل تحليل الدياتومات، وفحص شوائب الصلب، وتحليل النظافة، ومراقبة المواد الخام، وغيرها.
| مواصفات مجهر CIQTEK SEM4000X FESEM | ||
| البصريات الإلكترونية | دقة |
0.9 نانومتر عند 30 كيلو فولت، SE
1.0 نانومتر عند 15 كيلو فولت، SE 1.8 نانومتر عند 1 كيلو فولت، SE 1.5 نانومتر عند 1 كيلو فولت (تباطؤ الحزمة الفائقة) 0.8 نانومتر عند 15 كيلو فولت (تباطؤ الحزمة الفائقة) |
| جهد التسارع | 0.2 كيلو فولت ~ 30 كيلو فولت | |
| التكبير (بولارويد) | 1 ~ 1,000,000 × | |
| نوع مسدس الإلكترون | مدفع إلكتروني ذو انبعاث حقلي من نوع شوتكي | |
| غرفة العينات | آلة تصوير | كاميرات مزدوجة (ملاحة بصرية + مراقبة الحجرة) |
| نطاق المسرح |
X: 110 مم Y: 110 مم Z: 65 مم درجة الحرارة: من -10° إلى +70° نصف القطر: 360 درجة |
|
| أجهزة الكشف وملحقاتها في المجهر الإلكتروني الماسح | معيار |
كاشف الإلكترونات داخل العدسة: UD-BSE/UD-SE كاشف إيفرت-ثورنلي: LD |
| خياري |
كاشف الإلكترونات المتناثرة للخلف (BSED) كاشف المجهر الإلكتروني الماسح النافذ القابل للسحب (STEM) كاشف الفراغ المنخفض (LVD) مطياف تشتت الطاقة (EDS / EDX) نمط حيود الإلكترونات المرتدة (EBSD) قفل تبديل العينات (4 بوصة / 8 بوصة) لوحة تحكم بكرة التتبع والمقبض تقنية وضع التباطؤ بالأشعة فوق البنفسجية |
|
| واجهة المستخدم | لغة | إنجليزي |
| نظام التشغيل | ويندوز | |
| ملاحة | نظام الملاحة البصرية، نظام الملاحة السريعة بالإيماءات، كرة التتبع (اختياري) | |
| الوظائف التلقائية | السطوع والتباين التلقائيان، والتركيز التلقائي، وتصحيح التصبغ التلقائي | |