CIQTEK at the 2026 MMMS Annual Spring Meeting in Illinois, USA
CIQTEK at the 2026 MMMS Annual Spring Meeting in Illinois, USA
February 11, 2026
March 27, 2026 – Evanston, Illinois, USA
CIQTEK is excited to join the Annual Spring Meeting of the Midwest Microscopy and Microanalysis Society (MMMS) on March 27, 2026, hosted at Northwestern University in Evanston, Illinois. This gathering is a must-attend event for researchers, microscopists, and industry professionals across the Midwest, providing a platform to share the latest in electron microscopy, microanalysis, and cutting-edge lab techniques.
Meet CIQTEK's Electron Microscopy USA Team
Our US local team will be on-site to meet attendees, discuss real-world lab challenges, and share insights into CIQTEK's full line of electron microscopy solutions. From routine SEMs to advanced field-emission systems, CIQTEK designs instruments that deliver reliable imaging, high performance, and practical usability for academic, industrial, and research labs.
The MMMS Spring Meeting is more than a conference; it’s a chance to see the latest technology in action, exchange ideas with peers, and explore tools that can make everyday lab work easier and more efficient. CIQTEK is proud to be part of this vibrant microscopy community, supporting innovation and practical solutions for researchers across the Midwest.
Come meet us in Evanston on March 27!
Explore our SEM lineup, chat with our team, and discover how CIQTEK instruments can support your microscopy and microanalysis needs.
دقة عالية جدًا مجهر مسح إلكتروني بخيوط التنغستن ال سيكتيك SEM3300 المجهر الإلكتروني الماسح (SEM) يتضمن تقنيات مثل بصريات الإلكترونات "النفق الفائق"، وكاشفات الإلكترونات داخل العدسة، والعدسات الشيئية المركبة الكهروستاتيكية والكهرومغناطيسية. بتطبيق هذه التقنيات على مجهر خيوط التنغستن، يتم تجاوز حد الدقة الثابت لهذا المجهر، مما يُمكّن مجهر خيوط التنغستن من إجراء تحليلات منخفضة الجهد لم تكن تُنجز سابقًا إلا باستخدام مجهرات الانبعاث الميداني.
مجهر مسح إلكتروني عالي الدقة بانبعاث المجال (FESEM) ال سيكتيك SEM5000X مجهر FESEM فائق الدقة بتصميم عمود بصري إلكتروني مُحسّن، يُقلل الانحرافات الكلية بنسبة 30%، محققًا دقة فائقة تبلغ 0.6 نانومتر عند 15 كيلو فولت و1.0 نانومتر عند 1 كيلو فولت. دقته العالية واستقراره يجعله مفيدًا في أبحاث المواد النانوية الهيكلية المتقدمة، بالإضافة إلى تطوير وتصنيع رقائق الدوائر المتكاملة شبه الموصلة عالية التقنية.